1. Vật liệu quang khắc (Lithography)
Photoresists
Positive PR (AZ1512, 1518, 1502), Negative PR (N1400), SU-8 PR, Thick PR
- Photoresist dương
Developer
AZ300-MIF, TMAH, MF-319
- Developer (TMAH 2.38%)
Adhesion promoters
Tăng bám dính cho photoresist
- HMDS
Strippers
Tẩy photoresist sau quang khắc
- SVC series
- PGMEA
Anti-reflective coatings
Lớp chống phản xạ cho quang khắc
- DUV ARC
- BARC
2. Vật liệu đánh bóng CMP
CMP slurries
Oxide, Copper, Tungsten CMP slurries
- Dung dịch CMP (silica)
CMP pads
Pad đánh bóng cứng / mềm
- Hard polishing pad
- Soft polishing pad
CMP accessories
Phụ kiện cho hệ CMP
- Conditioner disc
- CMP filters
3. Vật liệu màng mỏng (Thin film)
Bia phún xạ (Sputtering targets)
Bia PVD cho lắng đọng màng mỏng – kim loại, oxide, hợp kim
- Ti target Ø2" 99.99%
- Ti target Ø3" 99.99%
- Cu target Ø2" 99.99%
- Cu target Ø3" 99.99%
- Al target Ø2" 99.999%
- Au target Ø2" 99.99%
- Ag target Ø2" 99.99%
- Cr target Ø2" 99.95%
- Mo target Ø2" 99.95%
- ITO target Ø3" 99.99%
- ZnO target Ø2" 99.99%
Evaporation materials
Vật liệu bốc bay nhiệt / e-beam
- Metal pellets
- Metal wire
4. Hoá chất quy trình ướt (Wet process)
Cleaning chemicals
Dung môi cấp bán dẫn
- Acetone (cấp bán dẫn)
Wet etchants
Hoá chất ăn mòn ướt
- Etchant oxide đệm (BOE)